一種單雙極共存雙層薄膜結(jié)構(gòu)阻變儲(chǔ)存器及其制備方法
基本信息

| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510613307.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)(公告)號(hào) | CN105226182B | 公開(kāi)(公告)日 | 2018-01-12 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN105226182B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-01-12 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01L45/00;H01L27/115 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 李培剛;支鈺崧;汪鵬超;王順利;李超榮;唐為華;沈靜琴 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 北京鎵創(chuàng)科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州求是專(zhuān)利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 鄭海峰 |
| 地址 | 101300 北京市順義區(qū)昌金路趙全營(yíng)段56號(hào)院1號(hào)樓1層3070室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種單雙極共存雙層薄膜結(jié)構(gòu)阻變儲(chǔ)存器及其制備方法。該阻變存儲(chǔ)器具有結(jié)構(gòu)穩(wěn)定和單雙極共存的存儲(chǔ)性能,具體是指以金屬Ti/Au為上電極、以ITO作為襯底和下電極,利用射頻磁控沉積技術(shù)在ITO襯底上先后鍍上Cu2O和Ga2O3薄膜而形成阻變層,最后利用射頻磁控濺射的方法在ITO的襯底上和已經(jīng)鍍氧化鎵的薄膜上濺射鈦(Ti)和金(Au)薄膜,從而得到了ITO/Cu2O/Ga2O3/Ti/Au結(jié)構(gòu)的存儲(chǔ)器件,并實(shí)現(xiàn)了單雙極阻變共存、穩(wěn)定的保持特性的存儲(chǔ)性能。本發(fā)明的優(yōu)越性在于:通過(guò)異質(zhì)結(jié)界面處缺陷的移動(dòng)而產(chǎn)生單雙極阻變,制備的阻變存儲(chǔ)器件具有穩(wěn)定的保持特性、循環(huán)特性等多種優(yōu)異的阻變存儲(chǔ)性能,即綜合存儲(chǔ)性能的顯著提高。 |





