一種在樹脂鏡片上沉積碳膜的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN200610045736.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN100370281C 公開（公告）日 2008-02-20
申請(qǐng)公布號(hào) CN100370281C 申請(qǐng)公布日 2008-02-20
分類號(hào) G02B1/10(2006.01);C23C16/513(2006.01);C23C16/52(2006.01);C23C16/26(2006.01) 分類 光學(xué);
發(fā)明人 藺增;彭勃;巴德純 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 凱米光學(xué)（嘉興）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 沈陽(yáng)東大專利代理有限公司 代理人 東北大學(xué)
地址 110004遼寧省沈陽(yáng)市和平區(qū)文化路3號(hào)巷11號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種在樹脂鏡片上沉積碳膜的方法，采用等離子體化學(xué)氣相沉積方法在樹脂鏡片上沉積碳膜，利用高頻電場(chǎng)所提供的高能量等離子體與通入的烴類氣體產(chǎn)生裂解及淀積反應(yīng)，在鏡片表面形成碳膜，工藝過程為：用超聲波清洗機(jī)對(duì)樹脂基片進(jìn)行清洗；再進(jìn)行等離子清洗工藝，以Ar離子對(duì)基片清洗5min；通烴類碳源氣體和氫氣，進(jìn)行碳膜的沉積，射頻能量取值15～400W；烴類碳源氣體、H2氣體濃度比為1∶(0～3)，沉積時(shí)真空度10～50Pa ；沉積時(shí)間為10s～30min。所制備的碳膜均勻、致密，沒有大顆粒的附著，沒有開裂的現(xiàn)象，膜基結(jié)合良好，鏡片表面硬度及抗劃擦性能顯著增強(qiáng)。