一種溝槽式肖特基芯片的制造方法
基本信息

| 申請?zhí)?/td> | CN201410210599.1 | 申請日 | - |
| 公開(公告)號 | CN103956390B | 公開(公告)日 | 2017-01-11 |
| 申請公布號 | CN103956390B | 申請公布日 | 2017-01-11 |
| 分類號 | H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 呂新立;關(guān)仕漢;薛濤 | 申請(專利權(quán))人 | 淄博美林電子有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 淄博佳和專利代理事務(wù)所 | 代理人 | 孫愛華 |
| 地址 | 255000 山東省淄博市張店區(qū)張柳路6號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要

| 摘要 | 一種溝槽式肖特基芯片的制造方法,屬于半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域。包括N型基片(6)、位于N型基片(6)上方的N型外延層(5),在N型外延層(5)上部刻蝕出多個溝槽(8),在溝槽(8)內(nèi)形成氧化硅絕緣層(4)并填充有多晶硅3(3),在溝槽(8)上方依次形成肖特基界面(2)和金屬層(1),其特征在于:在所述的溝槽(8)外側(cè)設(shè)置有一個降壓環(huán)(7),降壓環(huán)(7)內(nèi)由氧化硅絕緣層(4)填充。本發(fā)明的溝槽式肖特基芯片省去傳統(tǒng)溝槽式肖特基芯片生產(chǎn)時接觸孔光刻步驟,簡化了生產(chǎn)工藝同時性能與傳統(tǒng)溝槽式肖特基芯片相同。 |





